• <progress id="unkat"><optgroup id="unkat"><dd id="unkat"></dd></optgroup></progress>
      1. <track id="unkat"><rp id="unkat"></rp></track>
        <dfn id="unkat"></dfn>
      2. 教育裝備采購網
        第六屆圖書館論壇580*60 2022中小學智慧圖書館

        原子層刻蝕 & 區域選擇原子層沉積系統

        教育裝備采購網 2022-06-20 15:53 圍觀0次

          近期向三星電子供貨原子層刻蝕(ALE(Atomic layer etch))和區域選擇原子層沉積(ASD(area selective deposition))設備. 

          設備由2個工藝模組和傳送模組構成的 Cluster type ,工藝整合一體化程序. 擁有500℃以上高溫及臭氧和等離子工藝能力,Z為開發半導體元件的次世代的設備.  ALE(原子層刻蝕)設備區別ALD(原子層沉積)設備是一款可利用原子層單位刻蝕沉積膜的設備,ASD(區域選擇沉積)區別ALD(原子層沉積)則是選擇性指定區域原子層沉積的設備. 

          目前很多學校,研究所以及企業采用ALE和ASD工藝積極研發未來前端集成元件. 期待ALE/ASD設備對未來半導體前端技術發展有較多的貢獻.

        原子層刻蝕 & 區域選擇原子層沉積系統

        點擊進入南京伯奢詠懷電子科技有限公司 (MSTECH中國代表處)展臺查看更多 來源:教育裝備采購網 作者:南京伯奢詠懷電子科技有限公司 責任編輯:張肖 我要投稿
        普教會專題840*100

        相關閱讀

        版權與免責聲明:

        ① 凡本網注明"來源:教育裝備采購網"的所有作品,版權均屬于教育裝備采購網,未經本網授權不得轉載、摘編或利用其它方式使用。已獲本網授權的作品,應在授權范圍內使用,并注明"來源:教育裝備采購網"。違者本網將追究相關法律責任。

        ② 本網凡注明"來源:XXX(非本網)"的作品,均轉載自其它媒體,轉載目的在于傳遞更多信息,并不代表本網贊同其觀點和對其真實性負責,且不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任。如其他媒體、網站或個人從本網下載使用,必須保留本網注明的"稿件來源",并自負版權等法律責任。

        ③ 如涉及作品內容、版權等問題,請在作品發表之日起兩周內與本網聯系,否則視為放棄相關權利。

        2022云展會300*245
        亚欧一区AV